小型磁控溅射镀膜仪参数指标
1.腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接；
2.样品台尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可调，旋转加热：0-20r/min可调，可从室温～500℃；
※3.真空系统：合资机械泵」+进口Pfeiffer分子泵；采用电磁挡板阀及限流阀；
4.极限真空：8.0×10-5Pa；
5.真空抽速：大气～8×10-4Pa≤20min；
※6.真空测量：全量程复合真空计，测量范围：105Pa～10-5Pa；
7.磁控靶：Φ2英寸2只（含靶挡板），兼容直流电源和射频电源；
8.溅射电源：500W直流溅射电源和300W自动匹配射频电源可选；
※9.质量流量计：进口20sccm、50sccm质量流量控制器各一套；
10.控制方式：PLC+触摸屏♀智能控制系统，具备漏〖气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能；
11.设备外形：L60cm×W60cm×H96cm机电一体化机架，预留1个KF40及CF35法兰接口；
12.设备供电总功率≤2KW，220V，单相三线∴制（一火一零一地）；
13.冷却循环系统：水压0.2～0.4MPa，水温10～25℃，给设备相关需水冷◥部件提供稳定的制冷水，具有缺水报◢警功能；
14.设备集成度高，可以直╳接放置于实验桌面上，需要拆卸的部分采用即插即用的方式，接线及安装调试便捷简单；
※15.设备整机可置于手套箱内，水、电、气等通过KF40接口接到手套箱外，与手套箱的对接灵活方便；
