产品详细介绍一、产品概述：
SPIN150i型匀胶机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。MYCRO的SPIN系列匀胶机具有稳定的转速和快速的启动，可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性，这正是SPIN150i型匀胶机的特点。
二、匀胶机工作原理：
匀胶机（spincoater）的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，匀胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。
三、匀胶机主要性能指标：
1、腔体直径：8英寸(202毫米)；
2、Wafer芯片尺寸：10-160mm直径的材料，4英寸方片；
3、转速范围:1~12000RPM**，±1rpmsteps；
4、最大加速度：30000RPM/S；
5、转速精度:±0.1rpm；
6、程序段数：无限制；
7、操作步数：无限制；
8、旋转时间：无限制*，±0.1Secondsteps；
9、旋转方向：顺时针，逆时针，交换摆动；
10、扩展接口：1个USB接口；
11、马达保护：20-50kPa,2-5l/min,TubeODØ6mm（可关闭）；
12、排废连接：1”M-NPT；
13、触屏控制：全彩触摸屏控制界面
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主营产品：匀胶机，旋涂仪，甩胶台，匀胶台，涂层机，涂胶机，涂膜机,旋转涂敷仪,HPC,PPC,PAC，SCE系列等离子清洗〒机，Cargille光学试剂，光刻机/曝光机，压力机,压片机,热压机，WABASH热压机,CARVER热压机,LAURELL匀胶机、HOTPLATE热板烤胶机
Laurell匀胶机Harrick等离子清洗机PIE等离子清洗机NDK热板烤胶机PlasmaEtch等离子处理系统Carver手动压片机Uvitron紫外固化箱Novascan紫外臭氧清洗机ζ
Wenesco/EMS/Unitemp加热板LaurellEDC系统，湿站系统NXQ光刻机
Anatech等离子系统Wabash/Carver自动压片机
公司名称:迈可诺技术有限公司
