1.配2～3组蒸发源,兼容有机/无机蒸镀。
2.主机与控制一体化设计,操控方便；结构紧凑，占地面积小。
3.该机是实验室制备金属膜、有机膜以及扫描电镜制样首选。广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。
| 主要技术指标 | |
| 真空腔室 | 玻璃钟罩+不锈钢底座，ф300×H360mm； |
| 真空系统 | 涡轮分子泵+直联旋片泵准无油真空系统； |
| 真空极限 | 优于2.0×10-4Pa； |
| 抽速 | 从大气抽至9.0×10-4Pa≤30min； |
| 基片台尺寸 | 最大可镀基片尺寸/面积：100×100mm；抽拉式基片台，方便装卡基片； |
| 控制方式 | 手动按钮控制； |
| 报警及保护 |
对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施； 完善的逻辑程序互锁保护系统。 |
