1.配1只磁控靶，预留1对蒸发电极，溅射/蒸发两用！
2.设备占地面积小，价格便宜，使用维护成本低！科研/教学设备！
| 镀膜方式 | 磁控溅射镀膜+蒸发镀膜（选配） |
| 真空腔室尺寸 | Φ200×H300mm |
| 真空腔室结构 | 立式上开盖结构，下置抽气系统，手动气弹簧提开式 |
| 真空系统 | 分子泵+直联旋片泵准无油真空系统 |
| 极限真空 | 优于5.0×10-5Pa（如需更高真空度可配进口真空泵组） |
| 基片台尺寸 | Φ100mm |
| 基片烘烤温度 | 室温～400℃，可调可控（PID控温） |
| 基片运动方式 | 自转，转速0-20转/分，可调可控 |
| 膜厚ω 不均匀性 | ±（1.5～5.0）% |
| 溅射靶/蒸发电极 | Φ2英寸靶1支，预留1组蒸发接口 |
| 电源 | 直流/中频/射频电源；数量1台 |
| 报警及保护系统 | 对泵、靶、电极等缺※水，过流过压，断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统 |
| 选购件 |
蒸发电极+蒸发电源、负偏压【电源、循环水机、膜厚控制系 |
