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                HF-650 热丝化学气相沉积生长金刚石设备

                HF-650 热丝化学气相沉积生长金刚石设备
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                HF-650
                高教
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                详细说明

                HF-650 热丝化学气相沉积生长金刚石设备

                1.适用于大面积自支撑金刚石ξ厚膜、大面积微米金刚石涂层和批量纳米金刚石工具涂层的制备。
                2. 热丝CVD金刚石在力学、热学、电学和声学等领域存在广泛应用,例如:拉丝模芯胚料、砂轮修整工具胚料、工具金刚石涂层、芯片散热衬底、大面积水处理电极和声表面波器件基片材料等。
                生长毫米级金刚石厚膜、金刚石薄膜、类金刚石膜、氮化硅和氧化硅膜等,最大生长面积200mm。
                2.在切削刀具、钻头、丝锥等表面沉积金刚石薄膜。

                型号 HF-650
                真空腔室尺寸 Φ650×H500mm
                真空腔室结构 立式前开门结构,后置抽╲气系统,双层水冷
                真空系统 扩散泵+机械泵+维持泵
                极限真空 ≤1.3×10-3Pa
                真空测量方式 两低一高数显复合真空计、薄膜压力计
                基片台尺寸 Φ200mm
                基片台升降 0-100mm
                基片台转速 0-3转/分(可调)
                热丝温度 2000℃-2500℃
                衬底温度 600℃-1100℃
                制膜种类 金刚石厚膜、类金刚石膜、氮化硅和碳化硅膜等
                电源型式 热丝电源
                真空控制方式 手动/自动控制可选
                工艺气体控制方式 4路工艺气体流量控制及显示系统
                报警及保护系统 对泵、靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施

                可以根据客户需求订制

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