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涂层测厚仪适用于研发和半导体,FPD,纳米技术,电子材料及特殊涂▓层生产线中的涂层测量.例如在半导体行业,需根据图样精确地获取晶圆表面的各个涂层沉积。涂层测量系统是用来监控工序并通※过测量涂层的厚度决定产品的质量。 测量涂层厚度有许多种方法。其中最常见的是基于机械技术的触针方法,显微镜技术和光学技术。 本涂层测厚仪是光学技术方法。因而由涂层表面的反射光和基板表面反射光之间的干涉现象或是光的相位差决◥定涂层的性质。这样我们不但可以测量涂层厚度还可测量光学常数。如果是透明涂层且可㊣ 维持光的干涉性,便可用ST系列测量任何样品。通过数学▆计算,多层涂层的每层厚度都可测量。由于采用的是用户友好界面,操作十分简单。 样品不会受到损害,并可快速测量从Å到数十μm的大范围厚度。 |
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一、测量原理 |
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利用光的间接测量 光&信号通道 光源发出的可见光(卤钨灯) => 涂层层(样品）=> 表面和界面的反射 => 光纤探针 => 分光计(检测器) => 通过光栅波长分解 => CCD电子信号转换 => A/D转换 => 通过 USB连接电脑 => 软件 通过光谱拟合厚度测【量 根据涂层厚度和折射率(N&K值)光谱呈现特殊的形状。 通过拟合计算光谱和测量光谱将涂层厚度最优化时可计算出∴厚度。
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涂层测厚仪, 为研发和实验室提供不同的模式 |
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涂层测厚仪 : R&D 实验室规模 |
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? 非接触/非破坏性 ? 反射计 ? 实时测量,多点显示 ? 基于软件∮的Windows ( Excel, Origin, MS-Word save) ? 各种n, k 模式(Cauchy, Cauchy Expotential, Sellmeier) |
? 2D,3D 测绘数据卐显示 (逐点详述)
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二、系统组件 |
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?标准件 |
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项 目 |
描 述 |
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检 测 器 |
2048像素CCD 阵列 |
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显 微 镜 |
MTS75S(ST2K) / Olympus(ST4K, ST5030) |
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光 纤 |
200? 反射光纤 |
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光学透镜 |
M4X, M10X (ST2K); M5X, M10X (ST4K, ST5030); M50X(Option) |
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软 件 |
VisualThick3.xx(ST2K & ST4K) ; AThickOS(Optional); VisualThickA (ST5030) |
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?配件 |
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项 目 |
描 述 |
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数 据 线 |
USB 线缆 |
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纯 硅 |
标准样品 |
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电 源 线 |
110～220V, 1～3Φ |
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操 作CD |
软件 & 操作指南 |
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手 册 |
操作指南 |
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快速指南 |
快速指南 |
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主备用灯泡 |
12V, 100W,卤钨灯(ST4K,ST5030); 12V, 35W,卤钨灯 (ST2K) |
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聚焦备用灯泡 |
5V, 6W, 卤钨灯 |
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SRM (option)(标准※参考样品) |
晶圆表面硅上面二氧化硅上生成的四个热氧≡化涂层。 |
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CCD摄像头(选项) |
640×480 彩色CCD |
? ST4000-DLX型 涂层测厚仪
基本组件
检测器(顶点用于测量)
用于反射的光纤
电源线
显微镜
5倍物镜
10倍物镜
卤素灯
8”平台
滤波器
数据线
可选项目
50倍物镜
CCD 摄像头
12” 平台
透射模块
标准样品
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三、系统软件 |
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操作系统 : VThick3.xx ST2000-DLXn & ST4000-DLX的操⊙作软件 |
操作软件 : AThickOS ST2000-DLXn & ST4000-DLX (可选) 的操作软件 |
操作系统 : VisualThickA ST5030-SL的操作软件 |
四、性能指标
? ST4000-DLX型 涂层测厚仪 测量范围 10nm～35? 测量分辨率 1nm 测量速度 1～2 sec/site 平台尺寸 200mm×200mm(8”) 300mm×300mm(12”) 测量样品尺寸 ≤ 8”, 12”(可选) 光斑尺寸 40?/20?, 4?(可选) 测量原理 反射计 测量方法 非接触 类 型 手动 尺 寸 500×610×640 mm 重 量 45Kg 适用温湿度 5～35°C, 30～80% RH 聚 焦 同轴粗微及细焦控制 照 明 12V/100W 卤素灯 可选项目 标准样品 CCD 摄像头 透射模块 Z轴自动轴系运动(透镜)
特性
快速测量 & 操作简便
非接触 & 非破坏性
良好的重复性和再现▃性
基于＠用户易操作界面的Windows
视图和储存数据的打印功能
应用
具备ST2000的所有功能且测量更精确
用于晶圆测量和 OLED
