涂层测厚仪适用于研发和半导体,FPD,纳米技术,电子材料及特殊涂层生产线中的涂层测量.例如在半导体行业,需根据图样精确〓地获取晶圆表面的各个涂层沉积。涂层测量系统是用来监控工序并通过测量涂层的厚度决定产品的质量。
测量涂层厚度有许多种方法。其中最常见的是基于机械技术的触针方法,显微镜技术和光学技术。
本涂层测厚仪是光学技术方法。因而由涂层表面的反射光和基板表面反』射光之间的干涉现象或是光的相位差决定涂层的性质。这样我们不但可以测量涂层厚度还可测量光学常数。如果是透明涂层且可维持光的干涉性,便可用ST系列测量任何样品。通过数学计算,多层涂层的每层厚度都可测量。由于采用的是用户友好界面,操作十分简单。 样品不会受】到损害,并可快速测量从Å到数十μm的大范围卐厚度。
一、测量原理 |
利用光的间接测量 光&信号通道 光源发出的可见光(卤钨灯) => 涂层层(样品)=> 表面和界面的反射 => 光纤探针 => 分光计(检测器) => 通过光栅波长分解 => CCD电子信号转换 => A/D转换 => 通过 USB连接电脑 => 软件 通过光√谱拟合厚度测量 根据涂层厚度和折射率(N&K值)光谱呈现特殊的形状。 通过拟合计算光谱和测量光谱将涂层厚度最优化时可计算出厚度。
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涂层测厚仪, 为研发和实验室提供不同的模式 |
涂层测厚仪 : R&D 实验室规模 |
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? 非接触/非破坏性 ? 反射计 ? 实时测量,多点显示 ? 基于软件的Windows ( Excel, Origin, MS-Word save) ? 各种n, k 模式(Cauchy, Cauchy Expotential, Sellmeier) |
? 2D,3D 测绘数据显示 (逐点详述)
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二、系统组件 |
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?标准件 |
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项 目 |
描 述 |
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检 测 器 |
2048像素CCD 阵列 |
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显 微 镜 |
MTS75S(ST2K) / Olympus(ST4K, ST5030) |
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光 纤 |
200? 反射光纤 |
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光学透镜 |
M4X, M10X (ST2K); M5X, M10X (ST4K, ST5030); M50X(Option) |
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软 件 |
VisualThick3.xx(ST2K & ST4K) ; AThickOS(Optional); VisualThickA (ST5030) |
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基本组件 检测器 (顶点用于测量) 用于反射的光纤 电源线 显微镜 10倍物镜 4倍物镜 卤素灯 数据线 可选项目 40倍物镜(用于表面观察) CCD 摄像头 标准样品
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