| GTDP射频CCP薄膜沉积装置 GTIP射频ICP薄膜沉积装置 | |
| GTDP射频CCP薄膜沉积装置 GTIP射频ICP薄膜沉积装置主要由薄膜沉积ζ室、真空抽气系统、气源进气调节系统、衬底加热温度控制系统等部分组成. 通过GTDP射频CCP薄膜沉积装置 GTIP射频ICP薄膜沉积装置可以掌握CVD(化学「气相沉积); 理解CVD的成膜过程及要求, 化学输运反应的原理, 等离子体CVD的原理、特点及等离子体的激励方式; 了解该技术在电学、光学、微电子学等领域的广阔应用前景.
实验项目 ? P型微晶硅材料及在薄膜太阳能电池▅上的应用 ? 硅系纳米复合薄膜材料PCVD法制备 ? 电容耦合/电感耦合等离子体化学气相沉积制备各种功能薄膜 | |
| 主要参数 ? 薄膜沉积室:由不锈钢底与玻璃钟罩组成; 有效尺寸:Φ220×H230mm ? 薄膜沉积室本底真空: ≤1Pa ? 射频耦合方式:电容耦合/电感耦合; 射频源功率:带500W 13.56MHz ? 气路系统:由三路转子流量计控⌒ 制(可选配质量ω 流量计) ? 衬底加热温度:室温至300℃可控
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? 平行板电极:Φ70mm ? 工作反应气体:由电极』板上微孔均匀导入 ? 真空抽气系统:2XZ-4型旋片机械泵, 4L/S, 220V供电 ? 管道、阀门:材质使用不锈钢和金属波纹管 ? 对过流过压、断路进行报警, 并执行︾相应保护措施 ? 供电电源:AC220V,50Hz, 整机功率2KW |
| 出厂价 GTDP-1 ￥263400.00 含机械泵、三路转子或质量流量计、电阻真空计、射频电源等 GTDP-2 ￥165000.00 含机械泵、金属扩△散泵、复合真空计、射频电源、三路质量◥流量计等 GTDP-3 ￥243000.00 含机械泵、分子泵、复合真空计、三路转子或质量流量计、电阻真空计、射频电源等 GTIP-1 ￥266040.00 含机械泵、转子流量计、电阻真空计、射频电源等 GTIP-2 ￥165240.00 含机械泵、金属扩散泵、复合真空计、射频电源、三路质量流量计等 GTIP-3 ￥244400.00 含机械泵、分子泵、复合真空计、射频电源、三路质量流量计等 | |
