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射频磁控溅射镀膜装置 GTRM系列 |
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GTRM射频磁控溅射镀膜装置主要由溅射镀膜室、真空抽气系统、气源进气调节系统、衬底加热温度控制系统、射频电源】等部分组成. 由于磁控溅射能够精确地控制工艺参数和提高膜层附着力、密度及均匀性, 已成为沉积薄膜的重要方法之一, 射频磁控溅射具有沉积速率高, 可以溅射任何材料, 包括导体、半导体和介质材料等特点. 由于在低气压下溅射, 因此膜层致密、针孔少、纯度高.
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主要参数 ? 溅射镀膜室:由不锈钢底与玻璃钟罩组成; 有效尺寸:Φ220×H230mm ? 溅射镀膜室本底真空:≤1Pa; 溅射腔极限真空:6×10-1Pa ? 溅射靶:Φ50mm, 溅射靶台和溅射靶可调距离:20～60mm ? 基片加热温度可控范围:室温～300℃ ? 射频源ξ 功率:500W,13.56MHz ? 气路系统:由两路转子流量计控制(可选配质量√流量计) ? 真空系统:2XZ-4型旋片真空泵, 抽气速率:4L/S, 单相220V交流『电源供电 ? 对过流过压、断路等异常情况进行报警, 并执行相应保护措施 ? 供电电源:AC220V,50Hz, 整机功率2KW
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实验项目 1、掌握射频磁控溅射法制膜的基本原理 2、了解磁控︼溅射镀膜仪的操作过程及使用范围 3、磁控溅射法制备金属膜、半导体膜、化合物膜、介质膜等薄膜 |
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出厂价 GTRM-1 ￥189600.00元 含机械泵、二路转子或质量流量计、电阻真空计、射频电源等 GTRM-2 ￥209760.00元 含机械泵、金属扩散泵、质量流量计、流量显示仪、复合真空计、射频电源等 GTRM-3 ￥306000.00元 含机械泵、分子泵、质量流量计、流量显示仪、复合真空计、射频电源等 |
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