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直流磁控溅射镀膜装置 GTDM系列 |
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GTDM系列直流磁控溅射镀膜装置具有结构简洁、操作简单、实验过程清晰等特色, 非常适合学校教学科研工作. 装置主要由溅射镀膜室、抽气系统、气路系统、衬底加热温度控制系统、溅射电源等部分组成. 射频磁控溅射具有沉积速率高, 溅射材料类型多的特点, 如半导体和介质等材料.
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可开设的实验 ? 掌握磁控溅射法制备薄膜的基本原理; ? 了解磁控溅射镀膜设备的操作过程及使用范围; ? 磁控溅射法制备金属膜、半导体膜、化合物膜、介质膜等＠ 薄膜
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? 磁控靶: Φ50 mm, 溅射靶台和磁控靶可调距离: 20～60 mm; ? 气路系统: 二路转子流量计或二路质量流量计; |
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主要技术参数 ? 溅射镀膜室: GTDM-1不锈钢底盘与玻璃钟罩组成; 其余采用不锈钢真空室; ? 溅射电源: GTDM系列: 直流200～700V, 功率0～1000W可调; ? 衬底温度: 室温～300℃可调可控; 除GTDM-1型外其余系列衬底可旋转; |
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? 真空系统: GTDM-1 2XZ-4机械泵, 速率: 4L/S, AC220V供电; GTDM-2 2XZ-2机械泵+K-100扩散泵; GTDM-3 2XZ-2机械泵+F100/110分子泵; |
? 极限真空: GTDM-1 6.7×10-1Pa; GTDM-2 5×10-4Pa; GTDM-3 8×10-5Pa; |
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? 恢复真空: GTDM-1 2Pa; GTDM-2 5×10-3Pa; GTDM-3 8×10-4Pa; |
? 用户需自备或选配: 冷却水系统、氩气(99. 99%)、靶材等. |
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出厂价: GTDM-1 ￥150000.00元 GTDM-2 ￥186000.00元 GTDM-3 ￥282000.00元 |
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