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                PE-CVD等离子体增强化学气相沉积镀膜Ψ设◥备

                PE-CVD等离子体增强化学气相沉←积镀膜设备
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                • PE-CVD等离子体增☉强化学气相沉积镀膜设备
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                详细说明
                PE-CVD等离子体增强化学气相沉积镀↑膜设备

                PE-CVD结构特点介绍:

                1、PECVD系列真空管式高温烧︽结炉如图所示,集控制系统△与炉膛为一体;

                2、炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,采用进口高温合金电阻丝为加热元件;

                3、高纯石英管横穿于炉体中间作为的炉膛,炉管两端用不锈钢法兰密封,工件式样在管中加热,加热元件

                   与炉管平行,均匀地分布在炉管外,有效的保证了温场的均匀性;

                4、测温采用性能稳定,长寿命的“K”型热电偶,以提高控温的精准性;

                5、它是专为高等院∞校﹑科研院所及工矿企业对金ω 属,非金属及其它化和物材料在气氛或真空状态下进行烧

                   结﹑融化﹑分析而研制的专用※设备;

                6、MPECVD系列真空管式炉能够快速开启,快速升降▆温,方便客户对特↙殊材料的装载,烧制和【观察;

                7、炉体的控制面板配有触摸屏,控制」电源开关,配有电源和保险指示灯,以便随时观察本系统的工作状态。


                基㊣ 本功能介绍:

                1、辉光放电:在系统低于100Pa启动射频电源可以实现辉光放电;

                2、加热:系统可以设△置30段温控程序,彩屏系统预存15条烧培曲①线,针对不同的样品,设置不同的预

                         设曲线,避免重复设置;

                 3、自动清◆洗功能:样品放入线圈的区域卐,配∴置好参数(PECVD功能配置),系统会自动抽真空,并

                                  通入设⊙置的气体,自动启动辉光放点;

                4、自动cvd功能:样品放入线圈的区域,配置好参数(PECVD功能配置),系统会自动抽真空,并通入

                                 设置的气体,自动启动辉光放点;

                5、智能能模式:实现自动清洗和cvd功能,样品不需移出,清洗cvd功能〖一键完成,并能实现多次的循

                               环操作;

                6、通气时间可以设定:通过界面设置通气时间,时间到后,系统自】动停止流量计,达到节能环保的目的;

                7、恒定真空控制:系统设置一个真空度的数◎值(见参数“真空设◤定值”),配合手动阀和真空泵,系统

                                 能实现真空的恒〗定;

                8、系统微正压控制:系统设置一个正压ㄨ值(见参数“真空设定值”),并配置好相应的气路,配合手动

                                   放气阀,可以实现系统微正压的恒定;

                9、系统正压保护功能:当因为◣误操作或者其他原因,系统压力超过保护值时(见参数“放气阀开启压力”),

                                    系统会自动关闭进气,保护设备;

                10、加热】炉膛移动的速度可以调节。

                PE-CVD等离◤子体增强化学气相沉积镀膜设备

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