激光椭偏仪SE 400advanced
多角度激光椭偏仪 SE400advanced使用632.8nm波长HeNe激光器，对测量薄膜厚度，折射率和吸收系数有非常出色的精度。 SE400advanced能够分析单层膜，多层膜和大块材料（基底）
• 超高精度和稳定性，来源于高稳定激光光源、温度稳定补偿器设置、起偏器跟踪和超低噪声探测器
• 高精度样品校准，使用光学自动对准镜和显微镜
• 快速简易测量，可选择不同的应用模型和入射角度
• 多角度测量，可完全支持复杂应用和精确厚度
• 全面的预设应用，包含微电子、光电、磁存储、生命∏科学等领域
规格:
• 激光波长632.8 nm
• 150 mm (z-tilt) 载物台
• 入射角度可调，步进5º
• 自动对准镜/显微镜，用于样品校准
• Small footprint
• 以太网接口连接到PC
SE 400advanced软件特征:
• 预先定义应用
• 多角度测量
• 广泛的材料数据库
• 拟合状况的图形反馈
• 支持多种语言
SE400advanced被设计用来将椭偏仪的测量能力发挥到极限，高稳定相位补偿器，电脑控制稳定频率旋转分析器 ，自动调整起偏器，The core concept of the SE400advanced with highly phase stabilized compensator, computer controlled frequency stabilized rotating analyzer and automated polarizer optimum positioning allows for the measurement of ultra thin films and surface roughness on almost any kind of absorbing or transparent substrate with a flat, mirror - like surface.
| ψ, Δ精度， 90° 入射角: | δ(ψ)=0.002°, δ(Δ)=0.002° |
| 长时稳定性2): | δ(ψ)=±0.1°, δ(Δ)=±0.1° |
| 膜厚精度1) | 0.1 Å for 100 nm SiO2 on Si |
| 折射率精度1) | 5×10-4 for 100 nm SiO2 on Si |
1) 精度定义为30次测量的标准差
2) 长时稳定性定义为24小时内90°位置测量的偏差
选项
•微细光斑选项，光斑直径30微米
•手动x-y方向移动载物台，行程150 mm
•地貌图 选项 (x-y方向, 最大行程200 mm, 带有真空吸附)
•摄象头选项，用于取代目镜进行样品对准
•液体膜测量单元
•自动对焦选项，同地貌图选项结合
•反射式膜厚仪FTPadvanced，光斑直径80微米
•双波『长激光 (405 nm 或1550 nm)
•SIMULATION软件
•针对粗糙表面硅太阳能电池的测量装置
