▼概要
美国国家标准技术研究所（National Institute of Standards and Technology）NIST发表了CaF2等的氟化物双折射对于实现光刻的高解像度是很大的障碍。现在虽然确∮立了补偿方法，克服这种问题，但是为验证●这个方法是否可行，需要用到在真空紫外波长区域具有高灵敏度的双折射计。本装置是日本分光多年来积累的偏光测定技术在真空紫外领域的扩展，高灵敏度双折射★测量的解决方案。根据偏ξ光变调法，在真空紫外波长〓区域进行氟化物等的双折射测量。为排除氧以及水的吸收所有的光路都进行氮气Ψ吹扫。
