磁控溅射镀膜系统——用于超导体(Nb, NbN, NbTiN )
圆柱形主腔体：电抛光不锈钢
低温泵+干泵，真空度< 4×10 -8 Torr。
三个6’’ DC磁控靶源，最大可达8英寸；
分别配备独立挡板，无交叉污染。
RF加载到DC靶源可选，可用DC/RF。
氩气和氮气气路可用
4’’衬底加热：最高750℃, 均匀性5℃内；单色光学高温计
样品台冷却：水冷
石英晶振监测（DC/RF模式下均可）
衬底RF刻蚀及偏压（13.56MHz，气冷）
LOAD LOCK （带自动传动手臂）
分子泵+干泵，真空度< 2×10-7 Torr
全自动传动衬底
控制单元：全自动电脑控制，半自动和手动模式可选；远程维护可用。
典型用户包括：格拉斯哥大学、法国波尔多第一大学、法国科学研究』中心（CNRS）、CEA、加拿大滑铁卢大学等。欢迎联系我们索取详细资料！
