品特点概述
适用范围：生长大面积金刚石薄膜(4-10英寸，甚至更大)
生长速度：可高达几μm-几十μm/h，甚至更高；
生长范围：可在直径100mm范围内∞生长、或者在直径300mm范围内生长。
研究及小规模生产型：
微波功率：2.45GHz，6KW, 脉冲模式可选 (提高沉积速度和质量)；
样品台：3’’-4’’ diameter,旋转衬底可选（提高大面积均匀性）;
真空系统：oil pump/dry pump，TMP可选（营造↑高真空基准）；
控制方式：半自动或全自动(操作灵活)；
生长速率：高达30μm/h.
整体特点：专门卐生长大面积热沉级、光学级多晶薄膜配置，适合于研发、小规模生产。
大面积光学级金刚石厚膜生产研究型：
微波功率：915MHz，30KW；
水冷衬底：直径250mm或更大; 衬底加热和衬底旋转可选.
4个4英寸衬底, heating and rotating each substrate upon request.
真空系统：vane pump / dry pump+TMP（营造高真空基准）；
控制系统：全自动控制（适合大批量生产）；
生长速率：高达30μm/h, 或更高速率
整体特点：专门大面积金刚石薄膜研究及生产配置；可获得4’’-10’’光学级金刚石厚膜（several mm thicknesses），也可以用于研究合成diamond dome.
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