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热蒸发源：多个
电子束蒸发源：多坩埚
高真空系统：低温泵+干泵，真空度＜10-7 Torr
样品台：可接纳4个6英寸衬底
膜厚检测系统：多个晶振检测探头
沉积速率分辨率：0.01A/s
离子束辅助沉积
光学监控系统：多个探头、多波段。
监控范围：220nm-2200nm
高精度镀膜
电脑控制：全自动软件
