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CVD反应装置
l 装置概述
本装置是一套CVD反应装置,拥有四个气路,两套独立的气路控制单元,加热炉安装在装置的侧面上下安装,精密的仪表控制加热炉炉温和气体流量,具有可靠性高,操作简便,结构紧凑的特点。该装置可用于化学沉积及与CVD特点相似的材料制备过程。
l 技术参数