仪器采用消光法椭偏测量原理，易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
采用水平放置样品的方式，方便样品▓的取放。
集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计※算机相连，方便使用。
采用激光作为探测光波，测量▅波长准确度高。
可测量纳米薄膜的膜厚和折射率；块状①材料的复折射率、样品反射率、样品透过率。
仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准○等操作。
软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、操作者等模式），便于仪器管理和使用。
利用本仪器，可¤通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验▆、旋光测量实、旋光等。
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项目
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技术指标
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仪器型号
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EX2
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测量方式
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自动测量
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样品放置方式
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水平放置
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光源
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He-Ne激光器，波长632.8nm
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膜厚测量重复性*
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0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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膜厚范围
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透明薄膜：1-4000nm
吸收薄【膜则与材料性质相关
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折射→率范围
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1.3 – 10
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探测光束直径
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Φ2-3mm
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入射角度
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30°-90°，精度0.05°
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偏振器方位角读数范↑围
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0-360°
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偏振器步进角
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0.014°
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样品方位调整
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Z轴高度卐调节：16mm
二维俯仰调节：±4°
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允许样品尺寸
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样品直径◥可达Φ160mm
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配套软件
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* 用户权限设置
* 多种测量模式选择
* 多个⊙测量项目选择
* 方便的数∮据分析、计算、输入输出
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最大外形尺寸
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约400*400*250mm
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仪器重量（净重）
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约20Kg
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选配件
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* 半导体激光器
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