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                纳米膜厚仪

                纳米膜厚仪
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                • 纳米膜厚仪
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                EM15
                北京
                详细说明

                纳米膜厚仪
                 

                EM15纳米膜厚仪是基于量拓科技先进的椭偏测量原理,针对纳米薄膜的厚度常规测量推出的一款专用仪器。

                EM15适用于测量块状材料基底上1-3层纳米薄膜的样品,可对其中的一层或两层薄膜厚同时进行测量。

                EM15还可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k。

                特点:

                • 非接触、非破坏性测量
                  可对任何样品进行测量
                • 无需制备薄膜台阶
                  不需要制作台阶,就可以测量纳米薄膜德厚度,大大简化了样品制作步骤。
                • 测量范围宽
                  纳米薄膜的膜厚范围为1-2000纳米,可胜任常ㄨ规的测量。
                • 快速测量
                  3s内快速完成一次测量,可监测纳米膜层生长过程。

                应用

                • EM15适合于科研和工业环境中的厚度的常规〇测量或质量控制。
                • EM15尤㊣其适用于1-3层薄膜厚度测量,可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k,高级功能可扩展至同事测量纳米薄膜德膜厚和折射率。
                • EM15可应用的领域包括:微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。

                技术指标

                配件
                水平XY轴调节平移台
                真空@吸附泵
                软件
                1. 中英文界〒面可选;
                2.多个预设项目供快捷操作使用;
                3.单角度测量/多角@ 度测量操作和数据拟合;
                4.方便的数据显示、编辑和输出;
                5.丰富的模型和材料数据库支持。
                    注:(1)测量重复ㄨ性:是∮指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。

                 

                 

                项目
                技术指标
                仪器型号
                EM15
                光源
                激光器
                膜厚测量重◥复性(1)
                0.5nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
                折射率〇测量重复性(1)
                5x10-3 (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
                单次测量时间
                典型3s
                探测光束直径
                1-2nm
                仪器重量(净重)
                25kg
                入射角度
                40°-90°可手动调节,步进5°
                样品方位调整
                Z轴高』度调节:±6.5mm
                二维俯仰调节ξ:±4°
                样品对准:光学自准直和显微对准系统
                样品台尺寸
                平面样品直径可达∏Φ200mm
                最大的膜层范围
                透明薄膜可达4000nm
                吸收薄膜则与材料性质相关
                最大外形尺寸
                887 x 332 x 552mm (入射角为90º时)

                性能保证

                • 稳定的激光光源、高灵敏度先进的椭偏︻测量采样方法,保证了稳定性∑和准确度
                • 稳定的结构设计、可靠的样品▲方位对准,结合先进的采样技术,保证↑了快速、稳定测量
                • 高精度的光学自准直显微和望远系统,保证了快速、高精度的样品方位对准
                • 一体化集成式仪器整体设计,保证了系统稳定性,并节省空间
                • 一键式软件设计以及丰富的◥物理模型库和材料数据库,方便用户使用

                 可选配件:

                •  NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
                •  NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米◥薄膜标片
                •  VP01真空吸附泵
                •  VP02真空吸附泵
                •  样品池


                 

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