半自动超声波清洗机 
设备工艺流程:根据设◣备所放场地布置要求(与采购■方沟通确定),设备走向统一采用‘左进右出’方式;操作时由操作人员左手手动上料→经纯水超声抛动清洗→化学液超声抛动→化学液超声抛动→纯水超声抛动清洗→化学液超声抛动→化学液超声抛动→纯水超声抛动清洗→化学液超声抛动→化学液超声抛动→纯水超声抛动清洗→纯水鼓泡漂洗→合格后经操作人员右手边手动下料;安全门：进口优质▅透明PVC活动门（对开/推拉式），保证设备外部环境符合劳动保护的相关标准，以保证设备操作人员及其周围工作人员的身体健康；
8. 全自动硅片超声波清▼洗设备 主要功能是对切片后硅片的超声波清洗、HCL酸腐蚀、QDR纯水喷淋ㄨ清洗;在同一台设备上完成;设备干燥系统配有2台6篮硅片◣甩干设备（干燥也可选择在清洗线上配氮气吹干槽）；设备结构:此设备腐蚀清洗装置主要由水平通过ぷ式腐蚀清洗主体(槽体部分/管路部分等),移动机械传送装置,进出料装置√,抽风系统,电控及操作台等部分组成;移动机械传送装置:采用原装进口不锈钢△丝杠水平左右移动,与日本SMC不锈钢丝杠/气缸垂直上下移动相结合;移动机械传送装置工作走向:根据设备所放场地布置要求(与采购方沟通确定),设备走向统一采用‘左进右出’(左侧进料，右侧出料)方式;操作时由操作人员左手上料工位准备区△人工上料→经超声波清洗→腐蚀→漂洗→漂洗→(甩干机干燥)工艺处理合格后经操作人员右◎手边下料工位准备区人工下料;
