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一 主要用途
主要用于金属材料表面改性及特种功能薄膜的制备
二 技术指标
极限真空度：1×10-5Pa
系统整体漏率：1×10-10Pa·m3/s
靶室整体对地绝缘，绝缘电阻大于10MΩ
转靶靶台与靶室绝缘，耐压值大于3000V
靶室为非磁性材料
三 系统组成
本系统主要由真空抽气系统、真空室系统、MEVVA源
系统、工件架系统及控制系统等组成。
