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                BAL-TEC 多功能离∞子束处理系统→(Ion-beam milling system)

                BAL-TEC 多功能离子束处理系统(Ion-beam milling system)
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                详细说明

                BAL-TEC 多功能离子束处理系统(Ion-beam milling system)

                主要特点

                ·完全由计♀算机控制的系统
                ·减薄角度可在0°~90°之间任意变化;
                ·为使用者提供最高灵活性的“一体化系统”
                ·加载——锁定系统可以保证永︽久的高真空
                ·离子能量可变,以适应不同能量的样品减薄
                ·通过LAN可对减薄过程进行外部控制


                仪器介绍

                “一体化系统”描述
                这种RES101型的离子减薄设备是一个紧凑的台式单元,所有部件都装配在一起,而且由◣于它高度的灵活性,它方便地适用于为透射电镜、扫描电镜、光学显微镜☆制备各种不同材料的样品。
                所有的离子束制备方法都能在一个单元ω内完成:
                ·用小角度最小可为0°进行单面或双面减薄,制备TEM试样。
                ·制备扫描电镜和光学显微镜∞样品
                ·表面情洗
                ·为增强★衬度而进行表面减薄
                ·可加工样品的最大直径ω 为25mm
                ·45°~90°倾角的减薄可以研究截面结构
                ·用各种靶材※对SEM或TEM样品进行原位喷镀
                ·为扫描电镜、光学显微镜,透射电镜提供各种样品台。

                计算机控制
                RES101 完全由计算机控制,由于使用了定位马达,各种减薄参数可以用步进解码器精确设定。所有的参数都列在菜单中,可以∑ 通过触摸屏来设置。 启动RES 101的程序后,减薄过█程就完全在电脑的控制之下。
                由此可以实现以下目标:
                ·通过与用户友好的RES101程序能够精确设置和控制所△有的过程参数。
                ·通过以下手段实现样品制备的完全自动化:
                1.设定完整的减薄程序
                2.为实现精确的重复制备①而设置的程序库
                3.光学图像处理的精确自动化终端特性
                4.用CCD照像机和减薄过程的实时图像存储控制样品
                5.外部电脑通过局域网(LAN)控制减薄

                视频监◣测器
                由于有了功能量大的CCD照像机,可以对样品的整个减薄过程进行观察,并∴对减薄过程进行评估。CCD相机的电动放大物镜的光学放大倍数为0.2~2。(选件)另加显微镜放大为4~20。实时图像可随时存储。样品用直接光源和背景光源照明√。

                网络兼容性
                由于使用了附加的软件,可以使用另※一台PC通过局域网(LAN)来监控减薄过程。

                马达控制所有的动作
                所有动作都可以通过带▼有步进解码器的直流电机实现,这样使精确和可重复的设置成为可能。设置〗精度为0.1°(角度)或0.1mm(位移)。

                真空和气路系统
                两级真空系统包括一个膜片泵和一个分子泵(速率701/s),可获得小于2×10-6mbar的无△油超真空。这个指标是离子真空规测得的。这种创新性的计算机控制气路系统可以保证离子源◎在6×10-5~4×10-4 mbar的工作︽压力下稳定工作。样品传送在真空室中进行时,通过真空加载-锁定装置在真空条件下完成操@作只需一分钟。

                离子源
                由于采用特别技术和马鞍形场离子源,可以连续工作400小时以上,而由于导热性好◤并不需要冷却水。离子源的能量可以变化,范围为1kv ~10kv,离子束流最大为3.5mA(每个源)。离子束的宽度取决于加速电压:10kv 时为0.8mm,2kv时约为2.5mm。因此,这套RES101设备既可以高速率╲减薄,也可以慢速减薄制备高分辨透射电镜(HRTEM)样品。
                减薄参数可以大范围调整
                RES101 用了≡两个离子源,相对设置,这样在加工样品时既可以单面加工也可以双面加工。减薄角度0°~90°可调。由于减薄角度和离子能量←可大范围调整,扫描电镜,透射电镜及光学显微镜试样〇制备的所有问题都能解决。

                The RES 101 is a compact bench unit, in which all the components are mounted in a single housing. Thanks to its high level of flexibility, it is ideally suited for the preparation of samples from a widely diversified range of materials, for all Transmission Electron, Scanning Electron, and Light Microscopy. 

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