摘要：本实用新型公开了一＠ 种用于真空杯内壁镀膜的二极溅射镀膜设备，包括支架、溅射镀膜装置、真空装置，其中溅射镀膜装置设置于支架上，真空装』置与溅射镀膜装置一端连接，溅射镀膜装置中设有若干杯具工装，可匹配不同的溅射电极，本实用新型的有益效果是：适用于不同大小和形状的真空杯，设备结构简单好维护，连续性好，多工件同▲参数加工，生产效率高且镀层质量的一致性好，另外，由于溅射电极可自由更换，沉积温度等关键参数可任意调整，镀层▓质量和组分可调整，而且一旦未来开发出更先进的抑菌镀层，这种↘设备将十分有利于新抑菌镀层的更新换代和快速形成产业化。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京泰科诺科技有限公司;
- 发明人施戈;彭建;陈良贤;
- 地址102212 北京市昌平区崔村镇西辛峰工业园村南6区1号
- 申请号CN201420785395.6
- 申请时间2014年12月11日
- 申请公◣布号CN204251694U
- 申请公布时间2015年04月08日
- 分类号C23C14/36(2006.01)I;
