摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜设备，其包括真空箱、设于所述真空箱内的移动小车、与所述移动小车连接并驱使所述移动小车作水平移动的直行驱动装置、与所述直行驱动装置连接的靶连接座、分别与所述直行驱动装置以及靶连接座连接并驱动所述靶连接座作纵向移动的升降驱动装置、与所述靶连接座固定连接磁控溅射靶。通过直行驱动装置推动移动小车作水平移动，同时在升降驱动装置的作用下推动靶连接座进行高度位置的调整，使磁控溅射靶成为可作二维运动的移动靶，而磁控溅射靶本身为长→条形，从而实现磁控溅射的三维调节功能，适合大尺寸、大曲率、深弯、异型等基片的】镀膜要求，使所镀制的薄膜具有高均匀性、高牢固度、高耐磨度等优点。
- 专利类型实用新型
- 申请人广东中环真空设备有限公司;
- 发明人王健文;韩冲;梁凯基;蔡东锋;
- 地址526020 广东∑ 省肇庆市端州区厂排街一巷60号
- 申请号CN201120127894.2
- 申请时间2011年04月27日
- 申请公布号CN202090052U
- 申□请公布时间2011年12月28日
- 分类号C23C14/35(2006.01)I;
