摘要：本实用新型涉及超声波H2传感器，由二个超声波传感器、气室、传感器测控单元、供电电源接口、温度传感器组成，其特征在于：二个超声波传感器分别安装在气室的两端，气室的两端分别设有进气口及出气口，温度传感器安装在气室的中部的温度传感器安装孔内，传感器测控单元分别与供电电源接口、二个超声波传感器、温度传感器相连，且在传感器测控单元设有输入接口和输出接口。本实用新型通过采用超声波探测技术后，彻底消除了流量对H2传感器的影响，在温度恒定条件下，H2传感器准确度高，使用寿命长。
- 专利类型实用新型
- 申请人武汉四方光电科技有限公司;
- 发明人刘志强;何涛;石平静;熊友辉;
- 地址430074 湖北省武汉市东湖开发区光谷创业街6号楼10层
- 申请号CN201020622014.4
- 申请时间2010年11月23日
- 申请公布号CN201917557U
- 申请公布时间2011年08月03日
- 分类号G01N29/024(2006.01)I;
