摘要：本发明公开了一种二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法，通过在喷嘴主体内设置带有预设角度的液体导向出口的多路液体分流管路，以及带有垂直气体导向出口的出气网板，可使喷射出的高速液体流与高速气体流产生充分地相□互作用，形成颗粒尺寸均一、可调的超微雾化液滴，并在雾化颗粒导向出口的加速及导向作用下向下喷向∩晶圆表面进行移动雾化清洗，本发明可大大缩小雾化颗粒尺寸，减¤小其具有的能量，从而可避免对晶圆表面图形结构造成损伤，并可提高清洗质量和效率，节约清洗成本。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人滕宇;李伟;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN201510917538.3
- 申请时间2015年12月10日
- 申请公布号CN105413905A
- 申请公布时间2016年03月23日
- 分类号B05B7/04(2006.01)I;B08B11/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
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京↑公网安备11010802043465号
