1分彩

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                一种氮化硅晶须增强氮化硅层状陶瓷的制备方法

                  摘要:本发明涉及〇一种氮化硅晶须增强氮化硅层状陶瓷制备方法。使用流延法制备氮化硅晶须薄层→预制体,然后使用化学气相渗透工艺在预制体中制备氮化硅基体,得到氮化硅晶须增强氮化硅复合材料。以复合材料为基片,在其两侧重复流延和化学气相沉积工艺,直至材料厚度达到要求。使用流延法制备的晶须预制体晶须分散均匀,增强体体积分数高。化学气相沉积工艺相比于烧结可以◤降低制备温度,减少对增强体的伤害,且不需使用烧结助剂,减少了杂质相的影响。同时,晶须增∮韧和层状复合增韧改善了氮化硅陶瓷的韧性。本发明能够制备出介电性能№和力学性能优异的氮化硅晶须增强氮化硅层状陶瓷。
                • 专利类型发明专利
                • 申请人西北工业大学;
                • 发明人成来飞;李明星;张立同;
                • 地址710072 陕西省西安市友谊西路127号
                • 申请号CN201510621539.3
                • 申请时间2015年09月25日
                • 申请公布号CN105198472A
                • 申请公布时间2015年12月30日
                • 分类号C04B35/81(2006.01)I;C04B35/584(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;