摘要:本发明公开了一种酸性烤蓝工艺制备高饱和磁通密度软磁复合材料的方法。采用酸性烤蓝工艺在软磁合金粉末表面包覆由尺寸均匀的纳米Fe3O4形成的包覆层,经粘结、压制成型、热处理工艺,制备新型的软磁复合材料。本发明的优点是:采用酸性烤蓝工艺制备Fe3O4方法简单,并且容易控制Fe3O4层的厚度,由于该反应是原位反应,因此制备的绝缘层致密,与磁粉的结合∴度高。与传统的软磁复合材料相比,由于绝缘层为亚铁磁性的Fe3O4,有效◤减少了磁稀释现象,从而可以得到具有高饱和磁通密度、高磁导率的软磁复合▆材料。
- 专利类型发明专利
- 申请人浙江大学;
- 发明人严密;赵国梁;吴琛;
- 地址310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号
- 申请号CN201410684249.9
- 申请时间2014年11月25日
- 申请公布号CN104465003B
- 申请公ㄨ布时间2016年08月17日
- 分类号H01F1/147(2006.01)I;H01F1/24(2006.01)I;B22F1/02(2006.01)I;