摘要：本发明公开了一种在』光学材料表面形成高硬度低摩擦光学薄膜的方法，该光学薄膜采用磁控溅射镀膜的方式形成，在真空度为3.0×10-4a以上，工作温度为60～90℃的条件下，以氧〗化硅层和碳化硅层构成一个周期，将多层氧化硅层和多层碳化硅层按周期反复♀交替地蒸着在基体光学材料的表面形成厚度大于4000nm的复合镀层，在碳化硅层的形成过程中渗入氢离子，氧化硅层厚度为10～120nm，碳化硅层厚度为100～1000nm，当复合镀层形成之后，在复合镀层的表面蒸着形成增透层，制成的光学薄膜经测试，硬度可达到2000HV以上，摩擦系▲数小于0.2，透过率达到85％左右，且价格便宜，寿命可以达到在光学材料表面贴盖的蓝宝石片的★四分之一左右，而成∏本仅有十分之一，可以用来替代光学窗口上使用的蓝宝石片。
- 专利类型发明专利
- 申请人宁波永新光学股份有限公司;
- 发明人毛磊;崔志英;杨勇;肖博智;
- 地址315040 浙江↘省宁波市科技园区明珠路385号
- 申请号CN201110141171.2
- 申请时间2011年05月27日
- 申请公布号CN102213778B
- 申请公布时〓间2013年04月24日
- 分类号G02B1/11(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;
