摘要：本发明公开了一㊣ 种在光学材料表面形成高硬度低摩擦光学薄膜的方法，该光学薄膜采用磁控溅射镀膜的方式形成，在真空度为3.0×10-4a以上，工作温度为60～90℃的条件下，以氧化硅层和碳化硅层构成一个周期，将多层氧化硅层和多层碳化硅层按周期反复交替地蒸着在基体光学材料的表面形成厚度大于4000nm的复合镀∴层，在碳化硅层的形成过程中渗入氢离子，氧化硅层厚度为10～120nm，碳化硅层厚卐度为100～1000nm，当复合镀层形成之后，在复合镀层的表面蒸着形成▆增透层，制成的光学薄膜经测试，硬度可达到2000HV以上，摩擦系ㄨ数小于0.2，透过率达到85％左右，且价格№便宜，寿命可以达到在光♂学材料表面贴盖的蓝宝石片的四分之一左右，而成→本仅有十分之一，可以用来替代光学窗口上使用的蓝宝石片。
- 专利类型发明专利
- 申请人宁波永新光学股份有限公司;
- 发明人毛磊;崔志英;杨勇;肖博智;
- 地址315040 浙江省宁波市科技园区明珠路385号
- 申请号CN201110141171.2
- 申请时间2011年05月27日
- 申请公布号CN102213778A
- 申请公布时间2011年10月12日
- 分类号G02B1/11(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;
