摘要:一种水性精密抛光膜,包括基材,其特征在于,所述基材表面具有由微米级磨料与水性♀胶粘剂和溶剂混合分散制成的浆料均匀涂布的涂层,所述涂层在研磨时能逐步单层脱落。本发明的抛光膜适用于MT连接器的研磨,特别是适用于光纤高于插针体的研磨,即光纤高度研磨,而且不必再使用其他的研磨液,研磨效↑率高,操作便捷。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京国瑞升科技股份有限公司;
- 发明人黄锐;石倩倩;
- 地址100085 北京⌒市海淀区上地信息路12号1号楼C402、C406室
- 申请号CN201010102617.6
- 申请时间2010年01月27日
- 申请公布号CN101733688B
- 申∑ 请公布时间2015年07月01日
- 分类号B24B19/22(2006.01)I;B24D3/28(2006.01)I;