摘要：本发明〇公开了一种本底硅的测量方法，其步骤包括：进行零点值测量，用倒加药得显色溶液，零点值的显色溶液的硅浓度为〒0，电压值V0；配制两种不同浓度的标准溶液，即标液1、标液2，溶液浓度分别为C1、C2；标液1、标液2分别作显色操作，再根据光电比色原理进行测量，并分别测量电压值V1、V2；经过计算，得出本底硅的浓度为X。用于测量的仪器为光度计，显色溶液中二氧化硅浓度越高∮，所测得的电压值越低。用此方法▲能够较精准地测量出无硅水中本底硅的浓度，精确了已知浓度二氧化硅的标▃准溶液的↓实际浓度，在二氧化硅浓度分析中对二氧化硅含量测得的结果更为々精确；且本方法操作简单，精确度高。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京华科仪电ξ 力仪表研究所;
- 发明人陈云龙;
- 地址100085北京市海淀区上地信☉息路2号国际创业园2号楼2E
- 申请号CN200810115658.1
- 申请时间2008年06月26日
- 申请公◇布号CN101403700A
- 申请公布时间2009年04月08日
- 分类号G01N21/78(2006.01)I;G01N21/27(2006.01)I;
