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                集成电路CT精准@ 成像的“源头”:Excillum高亮度◥液态靶X射线源

                教育装备◎采购网 2020-03-20 11:53 围观1243次

                  X射线穿透物体时会被物体吸收,其吸收能力取决于材料类型与物体厚度。CT(Computed Tomography),即电子计算机断层扫描,利用精↓确的X线束与灵敏度极高的探测器一同围绕被测物的某一部▆位进行连续的断面扫描并结合计算机实现三维重构,得到三维成像图形。

                  传统上我们接触比较多的是医疗CT,它是基于人体不同组织对X线的吸收与透过率不同,拍下〗人体被检查部位的断面或立体的图像,发◆现体内某些部位的细小病变。除医疗方面的√应用,CT也在无』损检测和逆向工程中发挥重大的作用。工业CT技术对气孔、夹杂、针孔、缩孔、分层等各种常见缺陷具有很高的探测灵敏度,并能精确地测定这些缺陷的尺寸,给出其在零件中的部位。与其他常规无损检测技术相比,工业CT技术具有成像尺寸精度高、不受工件材料种类和几何形状限制以★及可生成材料缺陷的三维图像等优势。

                  随着CT的发展,该技术也被用于电子业和¤半导体工业。半导体领域内传★统的成像往往借助于破坏性的切片成像,而CT可以在样品任何方向上进行非破坏性成像,不受周围细节特征的遮挡,可直接获得目标特征的空间位置、形状及尺寸■信息,在电子元器件的工艺、失效分析等方卐面有着巨大的应用前景。

                  2019年美国国防微电子部门(DMEA)的Michael Sutherland等人使用瑞∮典Excillum公司的液态金属靶X射线源MetalJet D2+,定制了一款用于集成电路检测的CT系统,该系统对90 nm制程的集成电路进行了扫描成像[1],图1为90 nm铜制程的某个断面层析成像,可以非常清楚的观察到内部结构。

                集成电路CT精准◥成像的“源头”:Excillum高亮度液态靶X射线源

                图1 90 nm铜制程的某个断面层析成像

                  与标准铜(Kα 8.04 keV)旋转阳极固态金属靶源相比,MetalJet D2+以镓(Kα 9.2 keV)为X射线源,在观测Cu和Si时,对比度约为标准铜靶的9倍。如图2所示,镓靶在Kα 9.2 keV时明显能比铜Kα 8.04 KeV获得更大的吸收衬度,并且液态靶♂光源亮度比标准铜光源高出约10倍。基于上述优势,液态靶光源可获得更高的成像质量⊙,成为集成电路铜互连结构成像的理想光源。

                集成电路CT精准□成像的“源头”:Excillum高亮度液态靶X射线源

                图2 利用镓(Kα 9.2 keV)在铜吸收边上方成像,对铜成分具有良好的对比度

                  Michael Sutherland等人还对该成像系统的X射线微焦斑大小和探测计数等进行▂了探讨。在液态靶X射线源MetalJet D2+中,焦斑大小可以在5-20 μm之间连续可调←,其电子束的最大允许功率与光斑尺寸呈线性对应关系,即20 μm光斑尺寸在250 W下运行,10 μm光斑尺寸在125W下运行。此外,其亮度随电子束焦斑功率密度的提高而增加。例如,与20 μm光斑相比,光源在10 μm光斑下的亮度大约是前者的两@倍。通常,X射线显微镜中探测器计数与光源的亮度有直接▲关系,作者预期在光斑大小为5 μm时系统具有最高的计数。为了验证这一假设,他们以1 μm为步长在5-20 μm之间的每个光斑大小进行了系统配置。对于每一个光斑尺寸,他们对聚光器进行校←准,找到最佳光斑位置,终确定了系统的最佳光斑尺寸实际上◣为~12 μm(图3),而且使12 μm附近的计@ 数比5 μm和20 μm光斑尺寸增加了30%。通过上述的研⊙究表明X射线光学显微镜计数最大时并不一定是在微焦斑小的时候,而是在计数和焦斑大小之间存在着最佳对应关系。由此可见,连续可调的X射线焦斑大小有利于系统对X射线♀计数优化╱,提升系〗统的成像质量。

                集成电路CT精准成像ω 的“源头”:Excillum高亮度液态靶X射线源

                图3 优化光斑大小,使x射线计数最大化。蓝色的线是图像中心计数的中位数,橙色的线是整个图像计数的中位数

                  为什么液态靶X射线源可以比标准光源高出约十倍的亮度呢?

                集成电路CT精准成像的“源头”:Excillum高亮度液态靶X射线源

                图4 Excillum液态金属靶X射线源示意图

                  在传统固体阳极技术中,为了避免阳极被损坏,其表面的工作温度必须远低于∮靶材的熔点,因此靶材的各种物理■性质,如熔点、导热系数等极大地限制了电子束功率的范围。而液态金属阳极则不同,由于靶材本身已处于熔化的状态,不受熔点的限制。同时,完好如初的液态靶材以接近100 m/s的速度在腔体内循环,阳极不断地自再生,电子束对靶材的损坏将微乎其微,使得液态靶与其他固态靶相比,功率密度得到大幅度的▃提升(如图5所示)。因此液态靶光≡源能够带来10倍于普通︾固体阳极X射线光源所发射的X射线通量(在相同焦斑面积上),实现更快(测试时间短)、更高(极高的亮度)、更强(信号强度)的测试体验。

                集成电路CT精准成像的“源头”:Excillum高亮度液态靶X射线源

                图5 液态靶与其他固态靶功率密度对比

                  综上所述,相比于传统的破坏性检测,通过X射线进行CT成像可以进行非破坏性的多维成像检测,有着非常大的优势,瑞典Excillum的液态靶X射线源的高亮度以及镓靶更适合于铜和→硅的对比度检测,是集成电路成像检测的理想光源。

                  

                      Quantum Design中国于2020年正式成为Excillum液态靶X射线源独家代理,更多▂产品信息,请点击:http://www.qd-china.com/zh/pro/detail/1912171072456

                  

                参考资料:

                  [1] Michael Sutherland, Software Automation and Optimization of an X-ray Microscope Custom Designed for Integrated Circuit Inspection. Microsc. Microanal. 24 (Suppl 2), 2018

                点击进入QUANTUM量子科学仪器贸█易(北京)有限公司展台查看更多 来源:教育装备采购网 作者:Quantum量子科学仪器贸易(北京)有限公司 责任编辑:张肖 我要投稿
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