大面积金刚石自支撑膜机械抛光新技术1
郭世斌1，曲杨2，吕反修1，唐伟忠1，佟玉梅1，宋建华1
1、北京科技大学材料科学与工程学院功〖能材料研究所，北京（100083）
2、沈阳科晶设备制造有限公司，沈阳（110168）
E-mail：bihan79@163.com
摘 要：本文研究了一种用抛光等离子体溅射CVD 法制备的金刚石自支撑膜新的机械抛
光技术。试验探索了转盘转速、金刚石粉颗粒尺寸、磨盘表面形状对金刚石自支撑膜磨抛
速率々的影响。研究表明：带槽盘对金刚石自支撑膜的粗研磨效果明显，速率较高，平面盘
对提高金刚石自支撑膜的表面粗糙度有利；不同颗粒的金刚石粉对应着各自合适的能充分
利用其磨削能力的转速，在这个转速下，金刚石自支撑膜的磨抛速率在12μm/h 左右。本
文通过对新的工艺参数的探索，为金刚石自支撑膜后续◥加工提供有力的技术支持。
关键词：金刚石自支撑膜；机械抛光；新技术