主要特点

1、配置三个靶枪，一个配套射频电源通过转换开关可以分别连接至任一靶头，用于各类靶材的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任何调换）。

2、可制备多种薄膜，应用广泛。

3、体积小，操作简便。

4、整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。

5、可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制△多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪（选配）。

6、可在手套箱内进行实验操作，更换各类易氧化的靶材用于镀膜实验。

技术参数

三靶磁控溅射部分

1、电源电压：220V  50Hz

2、总功率：2.5KW

3、极限真空度：< E-6mbar（配合本公司机械泵设备使用可达到 E-3mbar）

4、工作温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）

5、靶枪数量：3个

6、靶枪冷却∮方式：水冷

7、靶材尺寸：?2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）

8、射频溅射功率：300W/500W（可选）

9、载样台：?140mm

10、载样台转速：1rpm-20rpm内可调

11、保护气体：Ar、N2等惰◢性气体

12、进气气路：质量流量计控制2路进气，1个流量为100 SCCM，1个流量为200 SCCM

手套箱部分

1、电源：单相AC110V-220V  50Hz/60Hz

2、壳体材料：304不锈钢

3、手套箱腔体：1220mm×760mm×900mm

4、前级室：设有2个前级室，大前级室?360mm×600mm，小前级室?150mm×300mm

5、腔体环境：水含量<1ppm（20℃，1atm），氧含量<1ppm（20℃，1atm）

6、工作气体：N2、Ar、He等惰性气体

7、控制气体：压缩空气或惰性气体

8、还原气体：工作气体和H2的混合气（如果净化系统只有除水功能，还原气体与工作气体相同）

9、气体净化系统：德国BASF除氧材料、美国UOP高效吸水材料，净化系统再生过程自动控制，自动除水、 除氧功能，可长期、持续维持气体纯度在水<1ppm、氧<1ppm

10、压力控制系统：腔体气压可通过PLC触摸屏自动控制，控制精度为±1Pa，也可通过脚踏开关进行手动控制

11、过滤系统：进、出气端都装有过滤器，过滤精度为0.3μm

12、控制系统：SIEMENS彩色触摸屏（6寸），PLC控制系统，中英文双语可切换；

水探头采用美国GE品牌，0-1000ppm触摸屏显示，精度0.1ppm；

氧变送器采用美国AII品牌，0-1000ppm触摸屏显示，精度0.1ppm；

压力传感仪采用美国setra品牌，-2500-2500Pa触摸屏显示，精度±1Pa；

13、真空泵：采用英国EDWARDS品牌，抽速8.4m3/h-12m3/h

14、手套：美国NORTH品牌丁基合成橡胶

15、照明系统：飞利浦品牌荧光灯管

产品规格

三靶磁控溅射部分：500mm×560mm×660mm

手套箱部分：2300mm×1500mm×1900mm