脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
美国BlueWave公司是一家半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装△置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化◎物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及⊙器件加工。
1、脉冲激光沉积系统
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产品特点：
电抛光多空不锈钢超高真空腔体
可集成热蒸发源或溅◣射源
可旋转的耐氧化基片加热台
流量计或针阀精确控制气体流量
标准真空计
干泵与涡轮真≡空泵
可选配不锈钢快速进↘样室
可选配基片-靶材距离自动控制系统
可制备：金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳》米薄膜、多层膜、超晶格
2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）
产品特点 超高真空不锈钢腔体 电子束、热蒸发、脉冲激光●沉积可集成 独立衬★底加热，可旋转 多量程气体流量控制器 标准气◤压计 机械、分子、冷凝真空泵 可选ξ不锈钢快速进样室 衬底和源距离可控 可用于金属氧化物、氮化 物、碳化物、金属薄膜 |
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3、热化学气相沉积系统（TCVD）
| 产品特点 高温石英管反应器设计 温度范围：室温到1100度 多路气体精确控制 标准气压『计 易于操作 可配机械泵实现低压TCVD 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 液体前↘驱体喷头 2英寸超大完美温度均匀区 |
4、热丝化学气相沉积系统（HFCVD）
产品特点 水冷不锈钢超高真空腔 热丝易安装、更换 4个不同量「程气体控制器 标准气压计 衬底与热丝距离可调节 2英寸衬底加热、可旋转 完美制备金刚石和石墨→烯 |
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