设备用途
本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿】企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属▅及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧∞结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。
应用领域
半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业领域。
技术参数
设备名称：1200度管式炉
设备型号：TF1200-200
炉管材质：石英管
炉管尺寸：外径200*内径190*长度1000*壁厚5mm
加热』区尺寸：440
恒温区尺寸：200
最高温度：1200度(1小时)
工作温度：≤1100度(连续)
工作电源：单相 220V 50/60Hz 6Kw
加温
加热元件：电阻丝，环形加热
升温速率：20℃/min
