设备用途
本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下⌒对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。
应用领域
半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业领域。
技术参数
设备名称：1700度管式炉
设备型号：TF1700-80
炉管材质：刚玉管
炉管尺寸：外径80*内径70*长度1000*壁厚5mm
加热区尺寸：300
恒温区尺寸：120
最高温度：1700度(1小时)
工作温度：≤1600度(连续)
工作电源：单相 220V 50/60Hz 4Kw
加温
加热元件：硅钼棒，两侧加热
升温速率：10℃/min
测温
测温元件：B型热电偶
控温
温控仪表：数显仪表，智能化30段PID可编程控制。
控温精度：±1℃，超温报警
保温
保温材料：多晶氧化铝纤维材料，保温效果好，热能损耗少。
充气正压：≤ 0.02MPa
可通气体：惰性气体和还原性气体等。
法兰（炉管两端配有不锈钢密封CF法兰，包括精密针阀、指针式真空压力表、软管接头，若有特殊需求，可选配以下法兰）
1、聚四氟乙烯法兰，用于有腐蚀环境。
2、水冷法兰，用于¤更好防止密封圈老化。
3、KF法兰，用于更好真空实验需求。
真空（根本实际需要选配以下不同效果的真空泵或真空系统）
1、标准旋片式机械真空泵，直插接口，极限真空可达50Pa。
2、DZK10-1低真空系统，KF接口，极限真空可达1*10-1Pa。
3、GZK10-3高真空系统，KF接口，极限真空可达1*10-3Pa。
