产品简介：钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气∮系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄→膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究▓工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄】膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上∑蒸发镀膜※，且蒸发源带有挡板装】置，防止蒸↘发源被污染。
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产品名称 |
钙钛矿镀膜机 |
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主要特点 |
1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜█，且蒸发源带有挡板装置。 2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，烘烤加热温度可达180℃。 3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误△操作保护报警装置。 |
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技术参数 |
、镀膜室：不锈钢材料←，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm× 450mm×450mm 2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统 3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa 4、系统漏率：≤1×10-7Pa 5、蒸发源：安装在◣真空室的下底上；有机蒸々发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、 控温，加热温度400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电 源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开 启 6、样品架：安装在真空室的上盖ぷ上，可放置Ø120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm 7、加热温度：RT-180℃，测温、控温 8、膜厚控制仪：石英晶☆振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999Å |
