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                磁控溅射真空镀膜系统真空镀膜机

                磁控溅射真空镀膜系统真空镀膜机
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                de500 (DE500SPUTTER)
                北京
                详细说明

                磁控溅射真空镀膜系统真空镀膜机

                Features:

                特点:

                 

                Good Film Uniformity and repeatability     

                很好的薄膜均匀性∏和重复性

                 

                Safety interlock for critical components

                关键部件安全互锁保护

                 

                Configuration

                主要配置

                Magnetron Sputter Chamber

                溅射真空腔室

                D shape, 304 stainless steel chamber with viewport

                磁控溅射腔体为304不锈钢,并有观察窗

                Vacuum Pumping

                真空泵

                Turbo pump and dry rough pump with sputter chamber

                溅射室配备分子泵和无油机械泵

                Vacuum Valve

                真空阀门

                Pneumatic operation high vacuum and isolation gate valves

                气动控制高真空和隔离插板阀门

                Chamber Vent Valve, Rough and Foreline angle valve, and gas valve

                腔体充气阀门,粗抽和前级角阀,气体截止阀

                Sputtering Sources

                溅射源

                Four 4” circle magnetron sputtering sources

                4个4英寸圆形磁控溅射源

                Each source with Pneumatic shutter

                每个源配备手动挡板

                The power supply can be DC, pulse DC or RF power supply

                电源可以配备直流,脉冲直流或射频电源

                Sample Stage 

                样品台

                 

                Substrate linear motion, rotating, and the sample heating or water cooling, 

                Up to 6” substrate with Pneumatic substrate shutte

                样品台直线升【降和旋转,样品可加热或冷却,最大6英寸基片装载能力,配气动样品挡板

                Vacuum Gauging

                真空测量

                Wide range vacuum gauge and Pirani rough gauge

                宽量程真空计用于测量真空和皮拉尼粗抽计

                Pressure Control

                压力控制

                Three Mass flow controller

                三路流量计

                Capacitance manometer for sputter process pressure control

                一个压力计实现溅射压力控制

                Cooled Water Interlock

                冷水√安全互锁

                There are cooled water flow sensors of interlock to protect sputter sources work properly

                溅射源冷却水路配水流传感器对溅射源安全互锁保护

                Load Lock

                Option

                O2 reactive, RF plasma cleaning, single or multi substrate loading

                可选,

                通氧反应,射频等离子体清洗, 单基片或多基片装载能力

                 

                Specification

                主要技术指标

                Sputter Chamber Size

                磁控溅射腔体尺寸

                450mm wide x 430mm deep x 450mm high

                450mm宽430mm深450mm高

                The Base Vacuum Pressure in Sputter Chamber

                溅射腔体极限真空度

                better than 5E-8 Torr

                优于5E-8托

                Sample Loading Capacity

                装样能力

                Max. 6 inch flat substrate

                最大6英寸的平板基片

                The Max. Temperature of the Sample Heater

                样品加热器最高温度

                1000C

                1000度

                The film uniformity

                膜厚均匀性

                better than +/-3% over a rotating 4 inch Silicon wafer

                在旋转的4英寸硅基片上的膜厚均匀性由于+/-3%

                General Sputtering Pressure

                通用溅射压力

                1-5 mTorr

                1至5毫托

                 



                德仪(DE)科技有限公司专业进口美国磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发和脉冲激光真空薄膜沉积设备,以及磁控溅射源/电源、电子束蒸发源、溅射靶材和蒸发材料、阀门、真空计和流量计、真空密封穿导件等各种真空部件。十几年来,凭着高端的品质,先进的技术和周到的技术服务,德仪公司的产品为中国的知名高校、科研院所及企业的薄膜沉积工作提供了有力的支持。
                我们期待为您提供最适合您使用的真空薄膜沉积设备和部件!

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