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                双管滑动式1200℃四通↙道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS

                双管滑动式1200℃四通道●混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS
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                • 双管滑动式1200℃四通Ψ 道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS
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                OTF -1200X-4- C4LVS
                高教
                广东
                详细说明

                OTF-1200X-4-C4LVS 双管炉是 一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。通过滑动炉子实》现快速加热和冷却。请点击下图观看炉子的工作原理。

                 
                双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS
                 
                 
                特点:   
                1.双石英管:外管直径100mm ,悬挂的内管直径 80. 金属箔缠绕在内管的外表面上发生CVD反应。
                2.双管的真空密封法兰:允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)发生反应,冷却气体直接通入内管.
                3.四通道质量流量计控制4路气体。
                4.配有KF25快接◢和波纹管的高速机械泵。
                5.炉子底部装有滑轨:炉子可以从一端滑向另一端,从而实现快速升温@ 和降温.

                技术参数

                炉体结构
                • 高纯 Al2O3保温材料,保证了炉膛有极好的温度均匀性.
                • 内炉膛表面涂有美国进口的1760度高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命/
                • 炉子底部的冷却风扇保证了热量正常对外释放.
                • 密封法兰系统全不锈钢制作。
                电源 电源:208-240VAC,  50/60Hz, 单相,  2.5KW ( 20A 保险丝)
                加热温度 最高温度: 1100°C
                连续温度: 1000°C
                加热区
                加』热区长度: 440mm
                恒温◣区长度: 120mm (±1°C) @400~1100°C
                选择:   
                双温区炉可获ζ得t 240mm 的恒温区
                双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS
                 
                加热和冷却速度 最快的加热和冷却速度跟工作温度有关,  请点击下图可以看出最快的加热和冷却速度随温度的变化而变化。
                ( 在使用炉子之前,要校准工作温度和加热、冷却速度 )
                双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS 双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS
                加热 冷却
                石英管 外管:    OD100 x ID 96 x 1400, mm
                内管:    OD80 x ID 75 x 1800 mm
                真空法兰
                • 一对 SS304不锈≡钢法兰,通过用两个高温“O”型圈紧密密封可获得高真空。
                • 炉子底部装有一对滑轨
                • 炉子可以手动从一端滑向另一端,实现快速☆的加热和冷却。
                • 为了得到较快的加热速度,可以先将炉子预热,然后滑到放置样品的位置。
                • 为了获得较快的冷却的速度〇,把炉子滑向另一端,同时将冷却气体通入样品所在的位置。
                双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS 双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS 双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS 双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS
                左法兰(点击放大) 右法兰 (点击方大)

                极限真空度: 10^-2 torr (机械泵)
                10^-5 torr (分子泵)
                可选:本公司进口的防腐型数字式真空显示计,其测量范围为3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因测量气体种类不同而需要系数转换。(点击图片查看详细介绍)

                双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS

                温控仪
                • 温控仪:带超温保护和PID调节的 30 段程序控制∑。 控温仪表操作视频
                • 控温精度: +/-1°C
                混气系统 4路精密质子流量计:数字显示、气体流量自动控制.
                • MFC 1范围:  0~100 sccm
                • MFC 2范围:  0~200 sccm
                • MFC 3范围:  0~200 sccm
                • MFC 4范围:  0~500 sccm

                气路: 4 路
                流量精度: 0.2%
                进气和出气接口: 1/4" 卡套
                一个混气罐.
                每路气路都有一个独立的不锈钢针阀控制。  
                通过控制面板上的旋钮来调节气体流量. 请看下图
                MFC 面板(点击放大)
                双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS

                真空泵
                • 安装在移动架底部的机械泵,真空度达 10-3 Torr.
                • 真空泵与手动挡板阀之间用KF25 快接与不锈钢波纹管连接 .
                • 数字真空表安装在一㊣ 端的法兰上.
                 选择: 可以配分子泵,真空度达 10-5 Torr     
                作为基片用的25um厚的铜箔 
                (选配)

                 

                生长石墨烯的铜箔 (150m length x 150mm width x 25um thickness)

                双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS

                尺寸(mm) 炉体: 550 x 380 x 520
                移动架: 600x600x597
                净重 300 lb
                保修期 一年质保期 (耗材:如炉管,“O”型圈,和加热元件等不在保修范围内)
                认证 双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS  CE 认证
                快速加热冷却的双管CVD炉--操作视频 双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS
                双管滑动式1200℃四通道混气CVD系统- OTF -1200X-4- C4LVS
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