胶体磨|实验室胶体磨|中式胶体磨"胶体磨""实验室胶体磨""中式型胶体磨""胶体磨价格""胶体磨厂家""上→海胶体磨""广东胶体磨" 中试型胶体磨



CM2000/4 （PP2000/4）
功率 2.2-4 KW
转速 0-14000rpm
线速度 0-40m/s
尺寸（长X宽X高） (450X250X350)mm
重量 45
操作条件 0-16bar

中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对〖的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外ζ部压力（可由泵产生）加压产生 向下的螺旋冲击力，透过中试型胶体磨定、转齿∑　之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切ω　力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳⊙化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适ㄨ应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

CM2000/4中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别※是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4中试型胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成〗的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯¤齿突起和凹槽。定子可以无限〓制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流№体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面■抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

公司另外一项独特的创新，就是ω锥体磨CMO2000系列，它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上〗又进了一步。由于这项创新，CMO2000能够湿磨和研磨，产□　生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无卐级调节，从而可以得到精确的研磨参数。 研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由◥碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散『效果和最后的粒径大小都比〖胶体磨CM的效果更加理想。


胶体磨
流量*
输出
线速度
功率
入口/出口连接

类型
l/h
rpm
m/s
kW


CM 2000/4
700
9,000
23
2.2
DN25/DN15

CM 2000/5
2,500
6,000
23
7.5
DN40/DN32

CM 2000/10
7,500
4,200
23
15
DN50/DN50

CM 2000/20
20,000
2,850
23
27
DN80/DN65

CM 2000/30
40,000
1,420
23
50
DN150/DN125

CM 2000/50
80,000
1,100
23
110
DN200/DN150

*流量取决于←设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的10%。