VTC-200P真空旋转々涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。VTC-200P真空旋转涂膜█机腔体不可抽真空，工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上，该设备可储存12组程序，每组程序包含6个运ㄨ行阶段。不同运行阶段设备转数不同，使设备缓慢提升速度至极限速度，有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜，且不会过多浪费，节约材料。腔室的上盖可以对样品进行加热（可选功能），有利于粘稠度大的薄膜材料的涂覆过程的进行。VTC-200P真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。
产品名称 | VTC-200P真空旋转涂膜机 | ||
产品型号 | VTC-200P | ||
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有进出█水口 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：不需要 4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通风装置：需要 | ||
主要特点 | 1、设有12组程序，每组包含6个运行阶段，每段增减速率设置范围：100—2000rpm/s,每段时间◥范围：0—60s。 2、真空吸附△方式固定样件，操作简便。 3、吸盘真空度可以达到-0.08MPa。 4、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。 5、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单◣。 6、电机采用24V直流无刷电机，无级调速，可靠性高，适应性强，维修与←保养简单，噪音低，震动小，运转平稳，启动☆快速稳定，加速后运行平稳，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。 7、本机可置于手套箱内使用，但控制◆部分与真空泵需置于箱外。 8、可在惰性气体气ω氛（如Ar、N2）下进行涂层。 9、采用无油双杠真空泵，体积小巧、结构简单、操作容易、维护方便、不会污染环境等优点。 10、腔体通体采用聚丙烯材质，使用寿命更长，提高耐化学腐蚀性和优异的抗应¤力开裂性能。 11、全英文操作系ω 统。 12、具有开盖保护功能，当涂膜过程中或涂膜结束时打□ 开上盖后机器立刻迅速减速直到停止 13、控制器采用√单控制箱，液晶显示◆数值，更直观可靠。
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技术参数 | 1、电源：220V 50HZ 2、电机功率：350W/24V 3、转速：500rpm-6000rpm之间可调 4.可储存12组程序，每组程序包含6个运行阶段， 5、每段增减速率设置范围：100 rpm s—2000 rpm /s，每段时间范围：0-60s 6、吸盘规格φ100mm 7、本机可选配︾加热功能：加温范围RT-100% 加热盖，水槽及吸盘采用聚丙烯▅材质 温度单独控制，与主机程序控制无关联 | ||
产品规格 | 尺寸：φ250mm×360mm；重量：20kg | ||
标准配件 | 1 | φ100mm真空吸盘
| 1个 |
2 | O型胶圈 | 1个 | |
3 | 滴液器
| 1个 | |
4 | 滴液器支架 | 1个 | |
5 | 中心定位器
| 1个 | |
6 | 无油真空①泵 | 1台 | |
可选配件 | 进口㊣移液器
国产移液枪
其它尺寸的真空吸盘
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