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                4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV

                4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV
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                详细说明

                产品简介

                4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4″石英管及高真【空系统(机械泵+分子泵), 是专为半导体或太阳能电池基片(最大3”)的退火而设计。本机采用10KW红外灯管加热,最快升温速度为50℃/s,设有30 段温度控制,精度为±1℃。此外,通过RS485口和控制软件可在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。

                主要特点

                1、石英样品架固定在滑动法兰上,使样品装载更加容易。

                2、样品架上放置76mm的AlN基片,承载需要退火的样品。AIN具有很高的Ψ热导率,可使样品放置的区域有很好

                     的温度均匀性(± 5℃)。

                3、内插式热偶保证了温度的准确性。

                4、采用PID自动↘温度控制,30段程序,并设有过热和断偶保护功能。

                5、已通过CE认证。

                技术参数

                1、电源:炉体单相208-240V,50/60Hz,10KW;高真空系统AC110V/220V任意切换,50/60Hz,110W

                2、炉体结构:双层莫来石钢构

                3、石英管:外径Φ110mm,内径Φ103mm,长380mm

                4、样品架:76mm

                5、加热元件:8根红外灯管,灯丝长200mm,丝圈Φ10mm,灯长300mm

                6、加热区:102mm×305mm,均匀性±5℃

                7、热偶:K型热偶

                8、温度:最高温度1100℃,额定温度1000℃,在1000-1100℃下保温时间不得超过600s

                9、控温精度:±0.5℃

                10、最快升温速度:RT-800℃内50℃/s,800-1000℃内10℃/s

                11、高真空系统气动时间:2min

                12、真空度:6.3×10-5mbar(在40min中)

                13、真空法兰: KF-D25,配有两个高温O型圈密封

                14、流量计:16-160ml/min

                15、前级泵流速:在10mbar状态下3.8L/min,50Hz;4.4L/min,60Hz

                产品规格

                炉体:尺寸760mm×330mm×530mm,重量50kg

                高真空系统:尺寸:600mm×600mm×700mm,重量18kg





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