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                真╲空热压炉OTF-1200X-VHP4

                真︽空热压炉OTF-1200X-VHP4
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                详细说明

                产品简介

                真空热压炉OTF-1200X-VHP4是在真空高压下制备致密化合物材料→的理想工具,在5T压力下可键合多层基片。本机可以加热到1100 ℃,并设有30段控温程序。

                主要特点

                1、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和洁净度,同时延长使用寿※命。

                2、石英管两端设有带水冷的法兰。

                3、在石英管内真空环境下,通过底部可调整弯管移︾动液压柱,将压力传输到模具。

                技术参数

                1、输入电源:AC 220V  50/60Hz  6KW

                2、输出功率:2.2KW

                3、石英管:外径Φ100mm,内径Φ95mm,长1200mm

                4、加热区域:300mm

                5、最高工作→温度:1100℃

                6、控温精度:±1℃

                7、电动压力泵最大负载:20T

                8、气缸:Φ25mm

                9、可移动行程:15mm

                10、最大压力:6T(压力表显示10MPa)

                12、真空度:10-2torr(机械泵),10-5torr(分子泵)

                产品规格

                尺寸:1050mm×750mm×1750mm

                重量:365kg

                可选配件

                1、真空泵

                2、循环↑水冷机▃

                3、耐高温压力模具






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