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                高精度光学浮区◤法单晶炉

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                详细说明

                高精度光学浮区法单晶炉


                高精度光学浮区法单晶炉

                       Quantum Design Japan公司推出的高温光学浮区法单晶炉,采用镀金双面镜(避免四镜△加热带来的多温区点)、高反射曲面设计,温度可达2100℃-2200℃,系统采用高效冷却节能设计(不需要额外冷却系统),稳定的电源输出保证了灯丝的恒〖定加热功率......


                应用领域:

                ■  高∞温超导体

                ■  介电和磁性材料

                ■  金属间ω 化合物

                ■  半导体/光学晶体/宝石


                产品特点:

                ■  占地空间小【,操作简单,易于上手,独立支撑设计

                ■  镀金双面高效反射镜,加热◇效率更高

                ■  可实现温○度达2150°C

                ■  稳定的电源

                ■  内置︼闭循环冷却系统,无需外部水冷装置

                ■  采用商业化标准卤素灯

                高精度光学浮区法单晶炉

                高精度光学浮区法单晶炉


                  光学浮区法(垂直※区熔法)也可以说是一种垂直的区熔法。在生长装置中,在生长的晶体和多晶棒之间有一段靠光学聚焦加热的熔区,该熔区有表面张力所支■持。熔区自上而下或自下而上移动,以完成结①晶过程。

                  浮区法的主要优点是不需①要坩埚,也由于加热不受坩埚熔点ㄨ限制,可以→生长熔点极高材料。生长出的晶体沿轴向有较小的组分不均匀性在生长过♂程中容易观察等。浮区法晶体生长过程中,熔区的※稳定是靠表面张力与重力的平衡来◎保持,因此,材料要有较大的表面张力和较小的熔态密度。浮区法对加热技⊙术和机械传动装置的要求都比较严格。


                高精度光学浮区法单晶炉

                镜面系统 

                高精度光学浮区法单晶炉


                发表文章

                1. High quality(InNb)0.1Ti0.9O2 single crystal grown using optical floating zone method, Journal of Crystal Growth 446(2016)74–78. 

                2. 光学浮区法生长掺铟氧化镓单晶及其性能, 硅酸盐学报Vol. 45,No. 4,April,2017,P548-P552. 

                3. Ultralow-temperature heat transport in the quantum spin liquid candidate Ca10Cr7O28 with a bilayer kagome lattice, PHYSICAL REVIEW B97, 104413 (2018).


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                中科院◤物理所吉林大学
                中科院硅酸盐所哈尔滨工业大学
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