小型台式无掩模光刻系统
小型台式无掩模光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
| 传统的光刻工★艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩模板的设计通常需要经常改变。无掩模光刻技术通过以软㊣ 件设计电子掩模板 的方法，克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的∑ 开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系≡统，具有结☆构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩模直写系统的灵活性，还拥有▼高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌〖面。 |
| 产品特点 | |
| Focus Lock自动对焦功能Focus Lock技术是利用●自动对焦功能对样品表面高度进行探ω 测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨】率。 | 光学轮廓仪Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌○探测与套刻。Z向最高精度100 nm，方便快捷。 |
| 直写前预检查软件可以实时显【微观测基体表面，并显示预直写√图形位置。通过实时调整位◥置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。 | 标记◤物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别◢光刻标记。标记物被↘识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。 |
| 简单■的直写软件MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简ㄨ单的布局设计、基片№对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。 | Clewin 掩模图形设计软件? 可以读取多种□ 图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等）? 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格╱式? 书写范围只由基片尺寸决定 |
产品参数
| Microwriter ML3 | 基本型 | 增强型 | 旗舰型 |
| 最大样品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
| 最大直写面积 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
| 曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 适用于SU-8 （365+405nm双光源可♂选） |
| 直写分辨◥率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
| 直写速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm50mm2/min @ 1μm100mm2/min @ 2μm180mm2/min @ 5μm |
| 对准显微镜镜头 | x10 | x3 and x10 自动切换 | x3, x5, x10, x20 自动切换 |
| 多¤层套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
| 最小栅格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
| 样品台最小步长 | 100nm | 100nm | 50nm |
| 光学轮廓Z分辨率 | 无(可升级) | 300nm | 100nm |
| 样品＠表面自动对焦 | 是 | 是 | 是 |
| 灰度直写(255级) | 是 | 是 | 是 |
| 自动晶片检查工具 | 无(可升级) | 有 | 有 |
| 温控样品腔室 | 无 (可升级) | 无 (可升级) | 有 |
| 虚拟模▲板校准工具 | 无(可升级) | 无(可升级) | 有 |
| 气々动减震光学平台 | 无(可升级) | 无(可升级) | 有 |
应用实例
直写分辨率1μm
直写分辨率0.6μm
微↓电极制备
| 光刻胶上的图形 | Au电极 （SEM） | Au电极（SEM） |
| 设计图 | 光刻胶上的图形 | 放大图的显微结构 |
微结构制备
微流通道制备
