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                2英寸高真空磁控溅@ 射头HVMSS-SPC-2

                2英寸☉高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2
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                • 2英寸高¤真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2
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                详细说明

                产品简介:2英寸高真空磁□ 控溅射头HVMSS-SPC-2主要适用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪,该磁控溅射头♀可安装直径为2"的靶材,适用靶材种类较广,如金属靶材(如金、银、铜等材料)、绝缘靶材(如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶ぷ材等)、磁性靶材、非磁性靶材等。2英寸高」真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2配装有环形NdFeB永〇磁体在溅射头上,以保证溅射镀【膜的效率和薄膜在样品表面分布的均匀性。该磁控溅射头可与DCRF电源配合使用来溅射不同种类的样品。

                产品型号

                2英寸高真空磁控溅@ 射头HVMSS-SPC-2

                主要特点

                1、采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制▃作。

                2、采用电磁场◤的有元计算法来设计永▃磁体,以得到较高的磁场强度和均匀分布。

                3、磁体表面涂有保护层,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命。

                4、标准的HN型接头,可与DCRF电源相匹配▆。

                5、安装采用标准真空接头,便于操作。

                6、靶材更换较为简单,无需调整溅射♀头的高度。

                技术参数

                1、阳极护罩♀直径:Ø3.5"

                2所用靶材:直径2"(50.8mm),非磁性靶最大ξ 厚度1/4",磁性靶最大厚度1/16"

                3磁铁:NdFeB稀土永磁体

                4、靶材利用率:30%

                5、所需功率:DC最大1000WRF最大500W

                6、溅射电流:最大3A

                7、溅射电压:100V-1000V

                8、溅射时腔体真空度:5mtorr-100mtorr

                9、溅射『均匀性曲线:

                2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2

                10、水冷却:水管外径0.25",流速0.8GPM,进水温度<20

                产品规格

                2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2

                可选配件

                1、循环水冷机,流量为16L/min,水箱容积为6L

                2、同时购买300W射频发射器∮和2"磁控︼溅射头时,本司赠送1个高︼真空快速接头。接头内径为0.75",可将溅射

                 头安装在真空腔体上,真空腔体上的安装孔直径为1",真空腔体的壁○厚不得大于1"

                2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-22英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2

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