产品简介：1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD主要适用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪、VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪，该磁控溅射头♀可安装直径为1"的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配▆，因此可溅射各种靶材，如金属靶※材（如金、银、铜等材料）、绝缘靶材（如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等）、磁性靶材、非磁性靶材等。且采用高真空的结构设计，可提高镀膜质量。1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD配装【有环形NdFeB永磁体在溅射头上，以保证溅射镀膜的效率和薄膜在样品表面分布的均匀→性。
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产品型号 |
1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD |
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主要特点 |
1、采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制▂作。 2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均匀分布。 3、磁体表面涂有保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用▲寿命。 4、标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配。 5、安装采用标准真空接头▆，便于操作。 6、靶材更换较为简单，无需调整溅射头的高度。 7、配有铜靶1块。 |
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技术参数 |
1、溅射头♀直径：Ø46.3mm 2、所用靶材：直径1"±0.02"（25.4mm），最大厚度1/8"（3mm） 3、磁环：NdFeB稀土永磁体 4、柄杆直径：外径3/4" 5、电路接头：标准HN型接头，可与DC和RF电源相匹配 6、所需功率：DC最大250W，RF最大100W 7、阴极溅射电流：最大3A 8、阴极溅射电压：200V-1000V 9、工作压力范围：1mtorr-1torr 10、溅射厚度均匀性：采用磁控♀溅射在氧化非晶硅片上沉积一个20nm的薄膜，直流功率150W，真空环境 10mtorr，1"铜靶，与基片距离75mm
11、水冷却：水管接头为外径0.25"快插头，所需水流量1/2GPM，进水温度<20℃
12、高真◆空快速接头：为赠送品，数量1个，内径为0.75"，可将溅射◆头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装 孔直径为1"，真空腔体的壁厚不得大于1"
13、倾斜装置：溅射头¤相对于柄杆最大可倾斜±45?，设有¤刻度线，可观察到靶头倾斜的角度
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产品规格 |
尺寸：14"（355.6mm）；重量：1.36kg |
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可选配件 |
1、循环水冷机，流量为16L/min，水箱容积为6L。 2、100W小型手动匹配型射频电源RF-100-LD，可自行搭建溅射镀膜仪。 |
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主要应用 |
在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可╱制作各种薄膜，应用如下： 薄膜涂覆、半导体器件、磁记录介质、超导薄膜、量子计算器件、MEMS、生』物传感器、纳米技术、超晶格、颗粒膜、记忆合金、组合薄▼膜沉积、光学薄膜 |
