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                科研用等离子♀清洗设备

                科研用等离子清▲洗设备
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                • 科研用等离子清洗设备
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                详细说明
                科研用等离子清洗设备

                等离子技术的应用 
                通过对物体表面进行等离子轰击,可以⊙达到对物体表面的蚀刻,活化,清洗等目的。可以〗显著加强这些表面的粘性及焊接强度,等离子表面处理系统现正应用于LCD,LED,IC,PCB,SMT,BGA,引线框架,平板显示器的清洗和蚀刻。等离子清洗过的IC可显著提高焊线强度,减少电路故障的可能性。残余的感光阻剂、树脂,溶液残渣及其他有机污染物暴露于等离子体区,短时间内就能清除。PCB制造商用等离子蚀刻系统进▆行去污和蚀刻来带走钻╱孔中的绝缘物。对许多产品,不论』它们是应用于工业。电子、航空、健康等行①业,可靠性都依靠于两个表面之间的粘结强度。不管表面是金属、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的复♂合物,等离子体都有潜能改进粘着力,提高最终产品质量。等离子体改变任何表面的▽能力是安全的、环保的、经济的。它是许多行业面临的挑战问题的可行的解决方案。 
                等离子处理的原理 
                给一〗组电极通上射频电源,电极之间形成高频交变电场,区域内气体在交变电场的激荡下,形成等离子体,活性等离子对物体表面进行物理轰击与化学反应双重作用,使被清洗物表面物质变成↘粒子和气态物质,经过抽真空排出,而达到表面处理ㄨ的目的。 
                在∞整个等离子处理过程中,影响等离子处理效果的要素包括过程温度、射频功率、气体分配、真空度、电极设置、静电←保护等等  YZD08-10C真空等离】子清洗机
                等离子清洗机参数:
                型号:PT-10S
                *供电电源: AC220V
                *工作电流: 整机工作电流◆不大于1.2A(不含真空泵→)
                *射频电源功率: 200-500W
                *射频频率: 40KHZ(偏移量小于↓0.2KHz)
                *频率偏移量: 小于0.2KHz
                *特性阻抗: 50欧姆,自动匹配
                *真空度: 30Pa—100Pa
                *气体流量: 10—100ml/min(可调)
                *过程控制: MCU自动与手动方式
                清洗时间: 1-6000秒钟可调
                功率大小 10%-100%可调
                内腔尺寸 200mm×200mm×260mm
                *外形尺寸:_650*520*500
                *重量: 45Kg
                *真空泵: 2XZ-6
                *真空室温度: 小于65°C
                *冷却方式: 强制风冷
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